بررسی خواص الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک نانومتری اکسید روی (zno)
thesis
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی شاهرود
- author مجتبی محمودزاده پیروحشی
- adviser حسین عشقی
- Number of pages: First 15 pages
- publication year 1389
abstract
در این رساله خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک (100-200 نانومتر) اکسید روی رشد داده شده به روش اسپری مورد بررسی قرار گرفت. برای این لایه نشانی ها از محلول اولیه 2/0 مولار استات روی دوآبه بر روی زیرلایه شیشه در دمای c° 450 با ناخالصی های مختلف آلومینیم، گالیم و ایندیوم با درصد های وزنی 1، 2 و 3 استفاده شد. همچنین سعی کردیم تاثیر بازپخت در خلا بر خواص فیزیکی لایه را بیابیم. برای بررسی خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی از دستگاه پراش اشعه x، طیف سنج uv-vis و دستگاه اندازه گیری اثر هال استفاده کردیم. دریافتیم نمونه های رشد داده شده بسبلوری با ساختار ورتزایت و راستای ترجیحی (002) بوده و از عبور نسبتا بالا (%90~) در ناحیه مرئی برخوردارند. بررسی ما در مورد نمونه خالص نشان داد که برای این لایه اندازه بلورکها تقریبا 27 نانومتر، گاف نواری ev 27/3 و دنباله نواری mev 119 است. در نمونه های آلایش شده وابسته به نوع ناخالصی، لایه های با 1 درصد وزنی آلومینیم، 2 درصد گالیم و 2 درصد ایندیوم بالاترین ضریب بهینگی را در بین سایر نمونه های گروه خود دارند. نتایج آزمایشگاهی همچنین نشان داد که بازپخت سبب پایین آمدن عبور اپتیکی، گاف نواری و مقاومت شده اما تمایل به افزایش دنباله نواری و ضریب بهینگی دارد
similar resources
بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامتهای اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
full textبررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)
در این پژوهش، اثر کاشت یون +N در نیمرسانای ZnO (اکسید روی) جهت بررسی تغییرات خواص لایۀ نازک ZnO بررسی شده است. بدین منظور لایۀ نازکی از ZnO به ضخامت nm ١٢۰ با استفاده از روش کندوپاش تهیه شد و سپس به وسیلۀ یونهای N+ با انرژی keV ۵۰ و شار ١۰١٤ (/cm2یون) به مدت زمان ۳ ثانیه بمباران شد. تأثیر کاشت یون+N در خواص بلوری ZnO توسط آنالیزXRD (پراش پرتو X) و تغییرات ریختشناسی سطح به وسیلۀ آنالیزهای AF...
full textمطالعه خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک اکسید روی آلایش شده با ناخالصی نیتروژن (ZnO:N) رشد یافته بر روی شیشه و لایه واسط ZnO به روش اسپری پایرولیزیز
لایه های نازک اکسید روی آلایش یافته با ناخالصی نیتروژن (ZnO:N) به روش اسپری پایرولیزیز بر روی شیشه و نیز لایه واسط اکسید روی خالص در دمای 0C450 به روش اسپری پایرولیزیز سنتز شدند. طیف XRD نمونه ها نشان دهنده رشد نمونه ها به صورت بس بلوری در فاز ششگوشی بوده در حالی که جهتگیری ترجیحی رشد در آنها تغییر پیدا کرده است. این تاثیر گذاری در خواص اپتیکی لایه ها نیز بخوبی مشهود بوده به طوری که عبور اپتیکی...
full textبررسی خواص الکتریکی و اپتیکی گرافن با زیر لایه BC3
در این مطالعه، خواص الکتریکی و اپتیکی گرافن با زیر لایه BC3 بررسی می شوند. محاسبات با استفاده از روش امواج تخت بهبود یافته خطی با پتانسیل کامل، بر پایه نظریه تابعی چگالی انجام شده است. محاسبه انرژی کل دو حالت برهم چینش AA و AB نشان می دهد که حالت AB پایدارتر از حالت AA است. محاسبه ساختار نواری نشان می دهد که گرافن با زیرلایه BC3 دارای گاف نواری کوچک به اندازه eV 0.15 در نقطه K است.گاف نواری ایج...
full textتأثیر اتمسفر فرآیند پخت روی خواص الکتریکی و نوری لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم
در این تحقیق لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم (ATZO) به روش سل ژل تهیه گردید. آنالیز فازی توسط تکنیک پراش پرتو ایکس (XRD)، مشاهدات ریز ساختاری و آنالیز عنصری توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) و ابزار طیف سنج تفکیک انرژی (EDX) انجام شده و زبری سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) مورد بررسی قرار گرفت. نتایج XRD نشان داد که حضور اتمسفر احیا...
full textتاثیر آلایش fe و co بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک zno
لایههای نازکzn0.97tm0.03o (tm = co, fe) روی زیر لایههای شیشهای با روش سل-ژل رشد داده شدند و اثرات جاینشانی فلزات واسطه بر روی خواص ساختاری و اپتیکی لایههای zno مورد بررسی قرار گرفت. طیفهای حاصل از پراش پرتو x از نمونهها نشان داد که تمام لایهها دارای ساختار ورتسایت میباشند. طیف تراگسیل نوری در بازه طول موجی 200-800 نانو متر برای نمونهها ثبت گردید و با استفاده از آن گاف نواری لایهها مح...
full textMy Resources
document type: thesis
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی شاهرود
Keywords
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023